专利类型：发明专利

 

申请日：2021-03-16

 

领域：废水处理、印染

 

摘要：本发明涉及一种印染废水处理装置及系统，其中，一种印染废水处理装置，包括基座，设置在基座上部的封闭箱体，在封闭箱体的上部一侧设置有进水管，以及在封闭箱体的上部和下部分别设置有上封闭区和下封闭区；吸附组件，设置在封闭箱体的内部左侧，且位于上封闭区和下封闭区之间，MBR膜组件，设置在封闭箱体的内部，位于吸附组件的右侧，且位于上封闭区和下封闭区之间；在所述下封闭区且位于吸附组件的下部设置有下曝气装置，与下曝气装置连接的气流存储区，与气流存储区的气流管连接的逆流阀，逆流阀与曝气管连接，所述曝气管设置在封闭箱体的下部，且位于下导轨的左侧以及左封闭区的右侧，本发明还提供了一种系统，配合上述的装置。