专利类型：发明专利

 

申请日：2017-12-20

 

摘要：本发明涉及土壤污染技术领域，具体涉及一种利用激光清除土壤污染物的方法，该方法为（1）收集土壤，并进行研磨细化；（2）将研磨细化的土壤放入高压喷射器中，在高压喷射器出口设置激光照射装置，通过高压喷射连续喷射土壤，激光照射装置以垂直于土壤喷出方向连续照射土壤并分解土壤中的有机污染物，照射处理的土壤进入沉降室，通过淋水沉降得到净化的土壤。由于激光具有很高的能够，对污染物进行照射后，可以将污染物分解，从而达到有效清除污染物的作用，且清除效率高、成本较低。实现了连续、快速净化修复土壤。